
Опорное основание является ключевым базовым элементом фотоэлектрической каркасной системы. Оно выполняет критическую роль в поддержании общего веса конструкции и распределении нагрузок.
Опорное основание является ключевым базовым элементом фотоэлектрической каркасной системы. Оно выполняет критическую роль в поддержании общего веса конструкции и распределении нагрузок. Основные типы включают бетонное фундаментное основание и свайное фундаментное основание, которые широко применяются в различных проектах — от наземных электростанций до распределённых фотоэлектрических систем.Бетонное фундаментное основание изготавливается методом заливки высокопрочного бетона. Оно отличается структурной прочностью и высокой несущей способностью, идеально подходит для ровных площадок, таких как равнины или крыши, обеспечивая надёжную опору для каркаса и эффективно противостоя ветровым, вибрационным и другим внешним воздействиям.Свайное фундаментное основание, как правило, изготавливается из коррозионностойких материалов, таких как углеродистая сталь или стеклопластик, и проходит специальную обработку. Его монтаж не требует масштабных земляных работ, что делает его оптимальным решением для сложного рельефа — пустошей, каменистых равнин (гоби) и заброшенных земель. Установка отличается высокой эффективностью и минимальным воздействием на окружающую среду.Оба типа оснований обладают превосходной стабильностью и долговечностью. Выбор между ними осуществляется в зависимости от рельефа и геологических условий конкретного проекта, что обеспечивает долгосрочную безопасную эксплуатацию фотоэлектрической каркасной системы. Опорное основание служит фундаментальным компонентом, гарантирующим общую устойчивость фотоэлектрической электростанции.